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J-GLOBAL ID：200903049745982977

ポリシランおよびポリシランの合成方法

Inventor： 中野 義彦 ,  吉川 佐和子 ,  早瀬 修二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998067472
Publication number (International publication number)：1999263845
Application date： Mar. 17, 1998
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】 有機溶媒に可溶で容易に薄膜にすることができ、機械的強度の高い膜が形成可能なポリシランを提供する。【解決手段】 有機溶媒に可溶性を有し、ガラス転移温度が-40°C以上であり、一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含有する共重合体を含むポリシランである。【化1】(上記一般式(1)中、Rは炭素数6個以下の置換または無置換の脂肪族置換基であり、aは、0.1以上0.9以下である。)

Claim (excerpt)：

有機溶媒に可溶性を有し、ガラス転移温度が-40°C以上であり、一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含有する共重合体を含むポリシラン。【化1】(上記一般式(1)中、Rは炭素数6個以下の置換または無置換の脂肪族置換基であり、aは、0.1以上0.9以下である。)

IPC (2)：

C08G 77/60 ,  C09D 5/00

FI (2)：

C08G 77/60 ,  C09D 5/00 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 有機ケイ素系ポリマー及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-367231   Applicant：信越化学工業株式会社