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J-GLOBAL ID：200903049780623750

錫微粒子の製造方法及び錫微粒子

Inventor： 温井 秀樹 ,  木下 暢 ,  竹田 洋介
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004100944
Publication number (International publication number)：2005281828
Application date： Mar. 30, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：

【課題】 黒色度、光遮蔽性に優れ、しかも安価な錫微粒子の製造方法及び錫微粒子を提供する。【解決手段】 本発明の錫微粒子の製造方法は、錫化合物、錯化剤及び保護剤を溶媒に溶解させ、この溶液の水素イオン指数を調整した後、この溶液に還元剤を添加し、錫微粒子を析出させることを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

錫化合物、錯化剤及び保護剤を溶媒に溶解させ、この溶液の水素イオン指数を調整した後、この溶液に還元剤を添加し、錫微粒子を析出させることを特徴とする錫微粒子の製造方法。

IPC (4)：

B22F9/24 ,  B22F1/00 ,  C22B3/44 ,  C22B25/00

FI (4)：

B22F9/24 Z ,  B22F1/00 R ,  C22B25/04 ,  C22B3/00 T

F-Term (18)：

4K001AA24 ,  4K001BA08 ,  4K001BA19 ,  4K001DB17 ,  4K001DB23 ,  4K001HA12 ,  4K017AA03 ,  4K017BA01 ,  4K017CA08 ,  4K017DA07 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB01 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07 ,  4K017FB11 ,  4K018BA20 ,  4K018BB05 ,  4K018BD04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 静電写真用液体現像剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-313274   Applicant：東洋インキ製造株式会社
• 金属を還元析出させるための水溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-198763   Applicant：株式会社大和化成研究所
• 特開平2-093076
  

Cited by examiner (2)

• 金属を還元析出させるための水溶液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-198763   Applicant：株式会社大和化成研究所
• 特開平2-093076