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J-GLOBAL ID：200903057641146002

金属を還元析出させるための水溶液

Inventor： 奥濱 良明 ,  武内 孝夫 ,  吉本 雅一 ,  高谷 茂 ,  田中 恵美子 ,  西野 雅之 ,  加藤 祐二 ,  小橋 康人 ,  久芳 京子 ,  近藤 哲也 ,  塩見 圭司 ,  小幡 惠吾 ,  小松 満男 ,  縄舟 秀美
Applicant, Patent owner： 株式会社大和化成研究所
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998198763
Publication number (International publication number)：2000034593
Application date： Jul. 14, 1998
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 金属を還元析出させるための水溶液を提供する。【解決手段】 この水溶液は、(A)ヒドロキシ又はアミノ置換アルキル基含有ホスフィンと(B)金属の可溶性の化合物又は該ホスフィンによって可溶性錯体を形成して可溶化される金属の化合物とを含有することを特徴とする。特に、電気めっき、無電解めっき、金属微粒子の製造及び(又は)金属の回収に使用される。

Claim (excerpt)：

(A)一般式(1)【化1】[ここで、R1 、R2 及びR3 は低級アルキル基を表すが、それらの少なくとも一つはヒドロキシ又はアミノ置換低級アルキル基を表す。]で表されるホスフィンと、(B)金属の可溶性の化合物又は該ホスフィンによって可溶性錯体を形成して可溶化される金属の化合物を含有することを特徴とする金属を還元析出させるための水溶液。

IPC (4)：

C25D 3/02 ,  B22F 9/24 ,  C22B 3/44 ,  C25C 1/20

FI (4)：

C25D 3/02 ,  B22F 9/24 Z ,  C25C 1/20 ,  C22B 3/00 T

F-Term (80)：

4K001AA01 ,  4K001AA03 ,  4K001AA04 ,  4K001AA05 ,  4K001AA06 ,  4K001AA07 ,  4K001AA08 ,  4K001AA09 ,  4K001AA10 ,  4K001AA12 ,  4K001AA16 ,  4K001AA17 ,  4K001AA19 ,  4K001AA20 ,  4K001AA21 ,  4K001AA24 ,  4K001AA30 ,  4K001AA41 ,  4K001DB17 ,  4K001DB21 ,  4K001HA10 ,  4K001HA12 ,  4K017AA03 ,  4K017AA04 ,  4K017BA01 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA04 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017EA01 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB07 ,  4K023AA11 ,  4K023AA12 ,  4K023AA13 ,  4K023AA14 ,  4K023AA15 ,  4K023AA16 ,  4K023AA17 ,  4K023AA18 ,  4K023AA19 ,  4K023AA22 ,  4K023AA24 ,  4K023AA25 ,  4K023AA26 ,  4K023AA27 ,  4K023AA30 ,  4K023AB33 ,  4K023AB38 ,  4K023AB40 ,  4K023AB42 ,  4K023AB46 ,  4K023BA08 ,  4K023BA29 ,  4K023CA09 ,  4K058AA17 ,  4K058AA30 ,  4K058BA07 ,  4K058BA13 ,  4K058BA14 ,  4K058BA16 ,  4K058BA17 ,  4K058BA18 ,  4K058BA19 ,  4K058BA20 ,  4K058BA21 ,  4K058BA22 ,  4K058BA23 ,  4K058BA24 ,  4K058BA25 ,  4K058BA27 ,  4K058BA28 ,  4K058BA29 ,  4K058BA30 ,  4K058BA31 ,  4K058BB02 ,  4K058CA02 ,  4K058CA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ビスマス-スズ合金めっき浴
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-026479   Applicant：奥野製薬工業株式会社
• 特開平4-021794
  

Cited by examiner (2)

• ビスマス-スズ合金めっき浴
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-026479   Applicant：奥野製薬工業株式会社
• 特開平4-021794