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J-GLOBAL ID：200903049786233342

レーザー脱離基材

Inventor： ラクシュミ,ブリンダ ビー. ,  チョン コンクリン,バトシェバ イー.
Applicant, Patent owner： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
Agent (5)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  加藤 憲一 ,  西山 雅也
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006532407
Publication number (International publication number)：2007503592
Application date： Apr. 14, 2004
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

様々な組成物の高エネルギー脱離/イオン化のための物品および方法が開示される。本発明の方法が、任意に1つ以上の表面コーティングと充填剤と共に多孔性基材を利用し、分析物の向上された脱離を提供する。かかる向上された脱離が、質量分析などの分析の分野において特に有用である。この向上された脱離が、様々な有用性を有する。例えば、前記多孔性基材の使用が、化学マトリックスを使用せずに脱離を行なうことを可能にする場合がある。

Claim (excerpt)：

第1の表面を有するポリマー基材と、 前記ポリマー基材の前記第1の表面の上の複数の細孔と、 前記複数の細孔の少なくとも一部の上のコーティングと、を含み、 分析物を受容し、後に前記分析物を脱離させるように構成される、多孔性ポリマー物品。

IPC (3)：

G01N 27/62 ,  H01J 49/16 ,  H01J 49/04

FI (3)：

G01N27/62 V ,  H01J49/16 ,  H01J49/04

F-Term (11)：

2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041FA09 ,  2G041FA10 ,  2G041FA11 ,  2G041FA12 ,  2G041GA06 ,  2G041JA08 ,  5C038EF19 ,  5C038GG07 ,  5C038GH17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 耐破壊性ポリオレフィン膜
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-565038   Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー