エッチング液

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三枝英二 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998332767
Publication number (International publication number)：2000164585
Application date： Nov. 24, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】各酸化膜を等速度でエッチングする組成物を提供する。【解決手段】熱酸化膜(THOX)及びボロンリンガラス膜(BPSG)のエッチングレートが25°Cで100Å/min以下、かつBPSGのエッチングレート/THOXのエッチングレートが1.5以下であるエッチング液。

Claim (excerpt)：

熱酸化膜(THOX)及びボロンリンガラス膜(BPSG)のエッチングレートが25°Cで100Å/min以下、かつBPSGのエッチングレート/THOXのエッチングレートが1.5以下であるエッチング液。

IPC (3)：

H01L 21/308 , C09K 13/08 , C23F 1/16

FI (3)：

H01L 21/308 E , C09K 13/08 , C23F 1/16

F-Term (11)：

4K057WA10 , 4K057WA20 , 4K057WB06 , 4K057WB11 , 4K057WE07 , 4K057WE11 , 4K057WE21 , 4K057WE30 , 5F043AA32 , 5F043BB22 , 5F043DD30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭49-052799
半導体装置の製造方法、リンス液、及び半導体基板洗浄液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-102554 Applicant：三菱電機株式会社

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