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J-GLOBAL ID：200903049868878252

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 畠山 潤 ,  渡辺 修 ,  武田 隆信 ,  渡辺 淳 ,  大澤 洋一 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998309243
Publication number (International publication number)：2000128930
Application date： Oct. 29, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1a)、(1b)、(1c)で示されるいずれかの繰り返し単位を有する分子内又は分子間で架橋された高分子化合物。【化1】(式中、R1は酸素原子、窒素原子、硫黄原子、炭素数1〜20の非置換又はアリール基置換のアルキレン基、炭素数6〜20の非置換又はアルキル基置換のアリーレン基、又はこれらアルキレン基とアリーレン基とが結合した2価又は3価の基を示し、上記アルキレン基、アリーレン基、及びアルキレン基とアリーレン基とが結合した2価又は3価の基はヘテロ原子を含んでいてもよい。R2は水素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基である。R3は炭素数1〜8のアルキル基である。mは0〜4の整数である。)【効果】 本発明の化合物を用いたレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、レジストパターンの耐熱性、再現性にも優れ、パターンがオーバーハング状になりにくく、寸法制御性に優れている。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1a)、(1b)、(1c)で示されるいずれかの繰り返し単位を有する分子内又は分子間で架橋された高分子化合物。【化1】(式中、R1は酸素原子、窒素原子、硫黄原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状の非置換又はアリール基置換のアルキレン基又はアルキリジン基、炭素数6〜20の非置換又はアルキル基置換のアリーレン基又はアリーリジン基、又はこれらアルキレン基又はアルキリジン基とアリーレン基又はアリーリジン基とが結合した2価又は3価の基を示し、上記アルキレン基、アルキリジン基、アリーレン基、アリーリジン基及びアルキレン基又はアルキリジン基とアリーレン基又はアリーリジン基とが結合した2価又は3価の基はヘテロ原子を含んでいてもよい。R2は水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基である。R3は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基である。mは0〜4の整数である。)

IPC (7)：

C08F 36/02 ,  C08F 12/22 ,  C08F 12/34 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/20 ,  C08F246/00 ,  G03F 7/039 601

FI (7)：

C08F 36/02 ,  C08F 12/22 ,  C08F 12/34 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/20 ,  C08F246/00 ,  G03F 7/039 601

F-Term (13)：

2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB55 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 感光性組成物及び画像形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-049012   Applicant：コニカ株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-335913   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-307363   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社