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J-GLOBAL ID：200903049945015556

微細加工方法及びその装置

Inventor： 前坂 明弘 ,  橋本 俊一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993107483
Publication number (International publication number)：1994297252
Application date： Apr. 09, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 走査トンネル顕微鏡(STM)を使用し、その探針を被加工物表面に接近させ、探針と被加工物表面とを液体中に浸した状態で、該探針と該被加工物との間に電圧を印加することにより該被加工物表面に微細加工を施す方法と、その装置。【効果】 化学的に安定で真空装置が不要な条件下で被加工物表面にnm〜μmオーダーの微細な凸部や凹部を形成することができる。

Claim (excerpt)：

走査トンネル顕微鏡の探針を用い、液体中で前記探針と被加工物との間に加工電圧を印加して、前記被加工物に微細加工を施す微細加工方法。

IPC (5)：

B23H 9/00 ,  B23H 9/08 ,  C25F 7/00 ,  G11B 9/00 ,  H01L 21/306

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-139827
  
• 情報記憶装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-176794   Applicant：キヤノン株式会社
• 超微細加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-281518   Applicant：セイコー電子工業株式会社
• 特開平4-139827