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J-GLOBAL ID:200903050035973730

セラミックスナノ粒子の水系湿式成形と高制御多孔質セラミックスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須藤 政彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004081731
Publication number (International publication number):2005263590
Application date: Mar. 19, 2004
Publication date: Sep. 29, 2005
Summary:
【課題】 シングルナノサイズ(1nm)からサブミクロンサイズ(100nm)までの径を有するセラミックスナノ粒子、それにより被覆した有機粒子、そのセラミックスナノ粒子被覆有機粒子を水系湿式成形して焼成してなる孔を高制御した多孔質セラミックス及びこれらの製造方法を提供する。【解決手段】 セラミックス前駆体の加水分解で、加水分解速度の速いセラミックス前駆体を使用し、エチレングリコールなどによる架橋又は加水分解速度の遅い前駆体の併用により、加水分解速度を調整して、粒子径が均一なセラミックスナノ粒子を製造し、そのセラミックスナノ粒子を用いサブミクロンサイズ以上の径を有した有機粒子に吸着・被覆することでナノ粒子により被覆された有機粒子を製造し、そのセラミックスナノ粒子被覆有機粒子を水系湿式成形し、焼成して、孔を高制御した多孔質セラミックスを製造する方法、及びその製品。【選択図】図10
Claim (excerpt):
セラミックス前駆体を加水分解してセラミックスナノ粒子を製造する方法であって、加水分解速度の速いセラミックス前駆体を用いて、その加水分解速度を調整することにより、シングルナノサイズ(1nm)以上の均一径を有するセラミックスナノ粒子を製造することを特徴とする、均一径セラミックスナノ粒子の製造方法。
IPC (7):
C04B38/06 ,  B01J20/28 ,  C01B13/32 ,  C01B33/18 ,  C01G25/02 ,  C04B35/626 ,  C04B35/628
FI (7):
C04B38/06 J ,  B01J20/28 A ,  C01B13/32 ,  C01B33/18 D ,  C01G25/02 ,  C04B35/00 A ,  C04B35/00 B
F-Term (54):
4G030AA17 ,  4G030AA37 ,  4G030BA01 ,  4G030BA32 ,  4G030BA34 ,  4G030CA03 ,  4G030CA04 ,  4G030CA09 ,  4G030GA01 ,  4G030GA06 ,  4G030GA07 ,  4G030GA09 ,  4G030GA10 ,  4G030GA11 ,  4G030GA17 ,  4G030GA18 ,  4G030GA19 ,  4G030GA20 ,  4G030GA27 ,  4G042DA01 ,  4G042DB11 ,  4G042DB23 ,  4G042DC01 ,  4G042DC03 ,  4G042DD04 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD10 ,  4G048AE06 ,  4G048AE08 ,  4G066AA22B ,  4G066AA23B ,  4G066AB06D ,  4G066AC14D ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066FA22 ,  4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072CC01 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ14 ,  4G072MM01 ,  4G072PP05 ,  4G072SS04 ,  4G072TT01 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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