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J-GLOBAL ID：200903050072240688

光触媒活性を有する金属板及びその製造方法

Inventor：
田村 元紀

About 田村 元紀


Applicant, Patent owner：
新日本製鐵株式会社

About 新日本製鐵株式会社


Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000258012
Publication number (International publication number)：2002069615
Application date： Aug. 28, 2000
Publication date： Mar. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 金属酸化物半導体の有する光触媒作用に由来する環境汚染物質の分解除去、防臭、防汚、殺菌作用を、より効果的に持続的に発揮しつつ、変形や加工性を兼ね備えた金属板及びその製造技術を提供する。【解決手段】 表面に0.5 〜5.0 μm の厚さの皮膜を有する金属板であって、該皮膜が、金属板から表面に向かって、金属層からなる内層と、金属と金属酸 化物半導体からなり、化学組成が金属層から金属酸化物半導体層に傾斜組成となっている中間層と、金属酸化物半導体層からなる外層とを、順に形成した皮膜を有し、該金属酸化物半導体が、Fe2O3 、Cu2O、In2O3 、WO3 、PbO 、V2O5、Bi2O3、Nb2O3 、ZnO 、SnO2、ZrO2から選ばれる少なくとも一つであり、前記内層の金属層が、該金属酸化物半導体を構成する金属であることを特徴とする光触媒活性を有する金属板である。
Claim (excerpt)：
表面に0.5〜5.0μm の厚さの皮膜を有する金属板であって、該皮膜が、金属板から表面に向かって、金属層からなる内層と、金属と金属酸化物半導体からなり、化学組成が金属層から金属酸化物半導体層に傾斜組成となっている中間層と、金属酸化物半導体層からなる外層とを、順に形成した皮膜であり、該金属酸化物半導体が、Fe2 O3 、Cu2 O、In2 O3 、WO3、PbO、V2 O5 、Bi2 O3 、Nb2 O3 、ZnO、SnO2 、ZrO2 から選ばれる少なくとも一つであり、上記内層の金属層が、上記金属酸化物半導体を構成する金属であることを特徴とする光触媒活性を有する金属板。
IPC (2)：
C23C 14/06 ,  B01J 35/02
FI (2)：
C23C 14/06 N ,  B01J 35/02 J
F-Term (63)：
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069AA11 ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB04C ,  4G069BC18A ,  4G069BC18B ,  4G069BC18C ,  4G069BC21A ,  4G069BC21B ,  4G069BC21C ,  4G069BC25A ,  4G069BC25B ,  4G069BC25C ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069BC35C ,  4G069BC54A ,  4G069BC54B ,  4G069BC54C ,  4G069BC55A ,  4G069BC55B ,  4G069BC55C ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC60C ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC66C ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069EC22X ,  4G069EE06 ,  4G069EE10 ,  4G069FB02 ,  4K029AA02 ,  4K029BA01 ,  4K029BA43 ,  4K029BA45 ,  4K029BA47 ,  4K029BA49 ,  4K029BA64 ,  4K029BB02 ,  4K029BB08 ,  4K029BC07 ,  4K029CA02 ,  4K029CA04 ,  4K029CA06 ,  4K029DB03 ,  4K029DC03 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 光触媒体及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-247309   Applicant：株式会社ブリヂストン
  • 光触媒膜及びその作製方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-252884   Applicant：株式会社ブリヂストン
  • 特開昭63-125660
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