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J-GLOBAL ID：200903050086117536

微細な無機酸化物のシリル化法

Inventor： ヘルベルト バルテール ,  マリオ ハイネマン ,  フランツ ヘルマン ,  アウグスト アルテンブーフナー
Applicant, Patent owner： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995134467
Publication number (International publication number)：1995330324
Application date： May. 31, 1995
Publication date： Dec. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 公知シリル化法を改善しならびに改善された性質を有する高無極性ケイ酸を提供する。【構成】 微細な無機酸化物を方法全体の温度範囲内で難揮発性のシリル化剤で、難揮発性のシリル化剤を微細な無機酸化物に液状で微細に噴霧されたエーロゾルの形で混合することにより処理する。【効果】 本発明によるケイ酸は、極性系における増粘剤として、油の吸収剤として、トナーの流動性改良剤としてならびに抑泡剤において使用される。

Claim (excerpt)：

微細な無機酸化物を、方法全体の温度範囲内で難揮発性の少なくとも1種のシリル化剤で、難揮発性シリル化剤を微細な無機酸化物に液状で微細に霧化されるエーロゾルの形で混合することにより処理することを特徴とする微細な無機酸化物のシリル化法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特公昭42-026179
  
• 特開平2-174974
  
• 塗料の耐アルカリ性を改良する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173464   Applicant：日本シリカ工業株式会社
• 疎水性金属酸化物粉体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-255714   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 疎水性シリカ粉体、その製法および電子写真用現像剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-016454   Applicant：三菱マテリアル株式会社