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J-GLOBAL ID：200903050094073351

テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法

Inventor：
永田 寛

About 永田 寛


Applicant, Patent owner：
住友ベークライト株式会社

About 住友ベークライト株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000330140
Publication number (International publication number)：2002138091
Application date： Oct. 30, 2000
Publication date： May. 14, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 合成における有機溶媒への溶解性がよく、イオン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法を提供する。【解決手段】 酸化ホウ素と、カルボン酸無水物、カルボン酸、アミンとを反応させる一般式1のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。(R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)
Claim (excerpt)：
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、一般式(4)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)【化2】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化3】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化4】( R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)
IPC (2)：
C07F 5/04 ,  C08G 59/40
FI (2)：
C07F 5/04 B ,  C08G 59/40
F-Term (10)：
4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048BE90 ,  4H048VA20 ,  4H048VA30 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4J036AA01 ,  4J036DD09 ,  4J036GA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-340126   Applicant：住友ベークライト株式会社
  • リン系潜伏性触媒の合成法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-012488   Applicant：住友ベークライト株式会社
  • 特開平4-243882

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