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J-GLOBAL ID：200903050146558464

ライン式レーザマーカ装置、その光学装置及びその刻印方法

Inventor： 宗田 昭彦 ,  川佐 洋一
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 橋爪 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996353463
Publication number (International publication number)：1998175084
Application date： Dec. 17, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】 刻印速度及び装置サイズ等の装置性能を損なわずに、ラインの刻印深さを均一にできるライン式レーザマーカ装置、その光学装置及びその刻印方法を提供する。【解決手段】 レーザ発振器1から出射されたレーザ光を、パターンが描かれたマスク面上を一方向に走査させ、前記マスクから透過されたレーザ光をワークに照射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装置の刻印方法において、レーザ発振器1から出射された前記レーザ光を、前記走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向させると共に、前記マスク面上を走査させる。あるいは、前記レーザ光を、前記マスク面内で回転偏向させると共に、このマスク面上を走査させるようにする。

Claim (excerpt)：

レーザ発振器(1) から出射されたレーザ光を走査器に入射し、この走査器によって前記レーザ光を、ワークに刻印するパターンが描かれたマスクの面上に一方向に走査して照射し、前記マスクから透過されたレーザ光をワークの所定刻印位置に照射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装置において、前記レーザ発振器(1) と前記走査器との間に配設され、かつ、レーザ発振器(1) から入射した前記レーザ光を前記走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向する光学装置(10)を備えたことを特徴とするライン式レーザマーカ装置。

IPC (3)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/44

FI (4)：

B23K 26/00 B ,  B23K 26/06 J ,  B23K 26/06 G ,  B41J 3/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザマーキング方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-034419   Applicant：株式会社小松製作所