Pat
J-GLOBAL ID:200903050227671532

液滴噴霧装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 喜樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000225953
Publication number (International publication number):2001121693
Application date: Jul. 26, 2000
Publication date: May. 08, 2001
Summary:
【要約】【目的】 圧力室を多数個設けた液滴噴霧装置において噴霧のため圧電/電歪素子により加圧された液体が、導入孔から流路へ発生させた逆流を緩和する液滴噴霧装置を提供する。【解決手段】 導入孔12は、圧力室10nの下面に対し直交方向に設けられ、流路20の上面に垂直に接続されている。流路20に接続された導入孔12の直下には、導入孔12の直径Lに対し2倍程度の深さDとする衝撃吸収面21が流路20の下面から突設するように形成されている。また、衝撃吸収面21は、導入孔12の直径円より広く、その外周は垂直に切り落とされ、段差部22を形成している。
Claim (excerpt):
複数の圧力室がそれら各圧力室に設けられた導入孔を介して同一の流路に接続され、該圧力室の体積変化により吐出口から液滴を吐出することによって噴霧を行う液滴噴霧装置において、該流路の深さを、該導入孔の少なくとも真下部分を他の部分より選択的に浅く形成したことを特徴とする液滴噴霧装置。
IPC (2):
B41J 2/045 ,  B41J 2/055
F-Term (11):
2C057AF06 ,  2C057AF08 ,  2C057AF10 ,  2C057AF40 ,  2C057AF79 ,  2C057AG01 ,  2C057AG33 ,  2C057AG44 ,  2C057AG75 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page