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J-GLOBAL ID：200903050235228893

被処理体の収納装置及び搬出入ステージ

Inventor：
守谷 修司

About 守谷 修司


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998122862
Publication number (International publication number)：1999307623
Application date： Apr. 16, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 内部雰囲気を不活性ガスに満たすと共に供給時にパーティクルを巻き上げることがない被処理体の収納装置を提供する。【解決手段】 気密に開閉される開閉ドア46を有する搬送可能な箱状の容器本体40と、前記容器本体の内面に設けられて、被処理体Wを多段に支持するための支持部材52と、不活性ガスを導入するために前記容器本体に設けられたガス導入ポート66と、内部雰囲気を排気するために前記容器本体に設けられたガス排気ポート68と、前記ガス導入ポートに接続されて前記容器本体内部に延びるガス導入ノズル54と、前記ガス導入ノズルの先端に設けられて導入されるガスの拡散力を抑制する拡散力抑制部材56とを備えるように構成する。これより、ガス導入ノズルから供給する不活性ガスの拡散力を拡散力抑制部材により抑制し、内部雰囲気を不活性ガスに満たすと共に供給時にパーティクルを巻き上げることを防止する。
Claim (excerpt)：
気密に開閉される開閉ドアを有する搬送可能な箱状の容器本体と、前記容器本体の内面に設けられて、被処理体を多段に支持するための支持部材と、不活性ガスを導入するために前記容器本体に設けられたガス導入ポートと、内部雰囲気を排気するために前記容器本体に設けられたガス排気ポートと、前記ガス導入ポートに接続されて前記容器本体内部に延びるガス導入ノズルと、前記ガス導入ノズルの先端に設けられて導入されるガスの拡散力を抑制する拡散力抑制部材とを備えたことを特徴とする被処理体の収納装置。
IPC (7)：
H01L 21/68 ,  B65D 85/86 ,  B65G 49/00 ,  C23C 14/50 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/3065
FI (7)：
H01L 21/68 T ,  B65G 49/00 A ,  C23C 14/50 K ,  C23C 14/56 G ,  H01L 21/02 D ,  B65D 85/38 R ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特開平3-001554
  • 特開平2-184333
  • 半導体ウエハ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-215299   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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