染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004233104
Publication number (International publication number)：2005099747
Application date： Aug. 10, 2004
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】カラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めても異物発生等の問題が発生しないカラーレジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターを提供する。【解決手段】ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物。樹脂、光酸発生剤又は光塩基発生剤、架橋性化合物、染料、及びケトール系溶剤を含有するネガ型レジスト組成物。樹脂、光ラジカル発生剤、架橋性化合物、染料及びケトール系溶剤を含有するネガ型レジスト組成物。樹脂、光酸発生剤、架橋性化合物、染料及びケトール系溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。ケトールがβ-ヒドロキシケトンであるレジスト組成物。ケトールが4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノンであるレジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ケトール系溶剤を含む染料含有レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335 , H01L27/14

FI (5)：

G03F7/004 501 , G03F7/004 505 , G02B5/20 101 , G02F1/1335 505 , H01L27/14 D

F-Term (32)：

2H025AA18 , 2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CC03 , 2H025CC13 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H048BA02 , 2H048BA48 , 2H048BB02 , 2H048BB42 , 2H048BB46 , 2H091FA02X , 2H091FA02Y , 2H091FA02Z , 2H091FB02 , 2H091FB12 , 2H091LA01 , 2H091LA07 , 4M118AA10 , 4M118AB01 , 4M118BA10 , 4M118FA06 , 4M118GC07 , 4M118GC17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開平4-163552号公報
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-201040 Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (5)

光重合性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-087556 Applicant：東亞合成株式会社
ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-201040 Applicant：住友化学工業株式会社
液晶表示装置用カラーフィルターおよびその製造方法ならびにそれを用いたカラー液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-316378 Applicant：東レ株式会社

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