撮像装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：最上健治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998033571
Publication number (International publication number)：1999220661
Application date： Feb. 02, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】欠陥画素の周辺領域の画像形状を考慮して、欠陥画素を高精度で補償できるようにした撮像装置を提供する。【解決手段】画素を2次元状に配置してなるCCD撮像素子1と、該撮像素子の欠陥画素位置及び欠陥画素が2次元的に連続している場合にはそれらの並び方パターンを記憶する欠陥画素情報記憶手段12と、撮像信号における欠陥画素位置の周辺領域の画像形状を、欠陥画素周囲の画素情報から検出し、その検出された画像形状に基づいて、欠陥画素を補間すべき画素を選択し、その選択画素で欠陥画素を補間補償する画素欠陥補償処理部8とを設けて撮像装置を構成する。

Claim (excerpt)：

画素を2次元状に配置してなる半導体撮像素子を備え、被写体光を画像信号に変換する撮像手段と、前記半導体撮像素子の欠陥画素位置、及び欠陥画素が2次元的に連続している場合には更にそれらの欠陥画素の並び方パターンを求める欠陥画素検出手段と、該欠陥画素検出手段で求めた欠陥画素に関する情報を記憶する欠陥画素情報記憶手段と、前記撮像手段より得られる画像信号における、前記欠陥画素検出手段より求められた欠陥画素位置の周辺領域の画像形状を、欠陥画素周囲の画素情報から検出する周辺画像形状検出手段と、該周辺画像形状検出手段によって検出された画像形状に基づいて、欠陥画素の周囲から画素を選択し、該選択画素で欠陥画素を補間することによって画素欠陥補償を行う画素欠陥補償手段とを備えていることを特徴とする撮像装置。

IPC (2)：

H04N 5/335 , H04N 9/07

FI (2)：

H04N 5/335 P , H04N 9/07 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

欠陥画素傷補正回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-123886 Applicant：松下電器産業株式会社
画像補正装置及び画像補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-056470 Applicant：株式会社東芝
固体撮像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-140129 Applicant：松下電器産業株式会社

Show all

Cited by examiner (8)

欠陥画素傷補正回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-123886 Applicant：松下電器産業株式会社
画像補正装置及び画像補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-056470 Applicant：株式会社東芝
固体撮像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-140129 Applicant：松下電器産業株式会社

Show all

Return to Previous Page