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J-GLOBAL ID：200903050419146423

光導波装置およびその製造方法

Inventor： 奥洞 明彦 ,  小川 剛
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 藤島 洋一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999120631
Publication number (International publication number)：2000199827
Application date： Apr. 27, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 支持基体の種類にかかわらず、高い光伝搬特性を担保し得る光導波路を有する光導波装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 多層配線基板2と、多層配線基板2上に配設された光導波路11、受光素子21、ICチップ25,35および発光素子31とを備えている。光導波路11は、平坦性に優れた透明基板上に形成されたのち、多層配線基板2に転写されたものであるので、光伝搬損失が少ないという利点を有する。ここでは、高速に伝送すべき信号は光信号として高速伝送され、比較的低速で伝送してもよい信号は電気信号として伝送される。よって、電気信号のみにより伝送する場合に問題となる信号の伝搬遅延が解消されると共に、電磁的ノイズの影響を受けるおそれが少なくなる。

Claim (excerpt)：

基板と、内部を光信号が伝搬しうるように予め別途形成されると共に、前記基板上に配置されて固着された光導波路とを備えたことを特徴とする光導波装置。

IPC (2)：

G02B 6/122 ,  H01S 5/026

FI (2)：

G02B 6/12 B ,  H01S 3/18 616

F-Term (16)：

2H047KA04 ,  2H047MA05 ,  2H047MA07 ,  2H047PA02 ,  2H047PA05 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  2H047TA31 ,  2H047TA43 ,  5F073AB15 ,  5F073AB28 ,  5F073BA01 ,  5F073FA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 表面実装光回路用の光導波路の製作方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-298599   Applicant：三井東圧化学株式会社