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J-GLOBAL ID:200903050419920544

有機-無機複合傾斜材料、その製造方法およびコーティング剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 静男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999270107
Publication number (International publication number):2001089669
Application date: Sep. 24, 1999
Publication date: Apr. 03, 2001
Summary:
【要約】【課題】 有機基材と強固に密着し、かつ表面側が実質上金属系化合物からなり、しかもその表面が粗面化された新規な有機-無機複合傾斜材料およびコーティング剤を提供する。【解決手段】 有機高分子化合物と金属系化合物との化学結合物を含有する有機-無機複合材料であって、材料中の金属系化合物の含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有し、かつ表面の金属系化合物層が凹凸構造を有する有機-無機複合傾斜材料、およびこの有機-無機複合傾斜材料からなる被膜を基材上に形成させるコーティング剤である。
Claim (excerpt):
有機高分子化合物と金属系化合物との化学結合物を含有する有機-無機複合材料であって、材料中の金属系化合物の含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有し、かつ表面の金属系化合物層が凹凸構造を有することを特徴とする有機-無機複合傾斜材料。
IPC (13):
C08L101/02 ,  C08J 3/00 CEY ,  C08J 3/00 CEZ ,  C08J 7/04 CER ,  C08J 7/04 CEZ ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/057 ,  C08K 5/541 ,  C08L 33/06 ,  C08L 43/00 ,  C08L 67/02 ,  C08L 77/00 ,  C09D201/00
FI (13):
C08L101/02 ,  C08J 3/00 CEY ,  C08J 3/00 CEZ ,  C08J 7/04 CER S ,  C08J 7/04 CEZ S ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/057 ,  C08L 33/06 ,  C08L 43/00 ,  C08L 67/02 ,  C08L 77/00 ,  C09D201/00 ,  C08K 5/54
F-Term (65):
4F006AA02 ,  4F006AA11 ,  4F006AA31 ,  4F006AB35 ,  4F006AB38 ,  4F006AB43 ,  4F006AB64 ,  4F006AB67 ,  4F006AB74 ,  4F006BA10 ,  4F006BA14 ,  4F006CA00 ,  4F006DA04 ,  4F070AA32 ,  4F070AA47 ,  4F070AA54 ,  4F070AB07 ,  4F070AC13 ,  4F070AC36 ,  4F070AC52 ,  4F070AE30 ,  4F070BA05 ,  4J002BG001 ,  4J002BG031 ,  4J002BG071 ,  4J002CF111 ,  4J002CL091 ,  4J002DE097 ,  4J002DE137 ,  4J002DE147 ,  4J002DJ017 ,  4J002EC076 ,  4J002EX026 ,  4J002EX036 ,  4J002EX076 ,  4J002GH00 ,  4J038CG111 ,  4J038CG141 ,  4J038CH031 ,  4J038CH041 ,  4J038CH071 ,  4J038CH081 ,  4J038CJ131 ,  4J038DD001 ,  4J038DG001 ,  4J038DH001 ,  4J038DL072 ,  4J038GA02 ,  4J038GA11 ,  4J038GA12 ,  4J038GA15 ,  4J038GA16 ,  4J038HA166 ,  4J038JA23 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038NA01 ,  4J038NA07 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA14 ,  4J038NA19 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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