Pat

J-GLOBAL ID：200903050485460970

次亜塩素酸塩の製造装置

Inventor： 四宮 吉継 ,  三好 弘二 ,  須藤 茂樹
Applicant, Patent owner： クロリンエンジニアズ株式会社
Agent (1)： 米澤 明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997210386
Publication number (International publication number)：1998121280
Application date： Aug. 05, 1997
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高濃度の次亜塩素酸塩を電気分解で製造する保守の容易な装置を得る。【解決手段】 陽イオン交換膜によって区画した電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と陽極室および陰極室との間には、陽極室生成物および陰極室生成物を次亜塩素酸塩反応槽に導入する導入手段を設けることによって塩素の配管を電解槽の外部に設ける必要がない次亜塩素酸塩の製造装置。

Claim (excerpt)：

塩水の電気分解による次亜塩素酸塩の製造装置において、陽イオン交換膜によって陰極室と陽極室に区画した電解槽と一体に次亜塩素酸塩反応槽を設け、次亜塩素酸塩反応槽と、陽極室あるいは陰極室の少なくともいずれか一方との間には、陽極室生成物あるいは陰極室生成物の少なくともいずれか一方を次亜塩素酸塩反応槽へ導入する導入手段を設けたことを特徴とする次亜塩素酸塩の製造装置。

IPC (2)：

C25B 1/26 ,  C25B 9/00 307

FI (2)：

C25B 1/26 C ,  C25B 9/00 307

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-094579
  
• 特開昭55-054585
  
• 次亜塩素酸塩の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-001355   Applicant：クロリンエンジニアズ株式会社