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J-GLOBAL ID：200903050660338902

ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク

Inventor：
大久保 靖

About 大久保 靖


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000335719
Publication number (International publication number)：2001174976
Application date： Nov. 02, 1993
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：
【要約】【課題】 比較的簡単な構成によって、ハーフトーン型位相シフトマスク本来の利点を生かしつつその欠点である露光光の洩れをほぼ完全に防止することができるハーフトーン型位相シフトマスク及びその素材たるハーフトーン型位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】 透明基板1上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させ、該透過光の位相をシフトさせる一層膜からなる半透光膜5を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、半透光膜5の上に、半透光膜5を構成する材料のエッチング環境に耐性を有する材料からなる遮光膜7を設けた。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させ、該透過光の位相をシフトさせる一層膜からなる半透光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記半透光膜の上に、前記半透光膜を構成する材料のエッチング環境に耐性を有する材料からなる遮光膜を有することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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