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J-GLOBAL ID：200903048725856189

ハーフトーン位相シフトフオトマスク

Inventor： 宮下裕之 ,  石北幸子 ,  三上豪一
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991287832
Publication number (International publication number)：1993127361
Application date： Nov. 01, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 構造をさらに単純化し、製造をより容易化したハーフトーン位相シフトフォトマスク。【構成】 透明基板10と、その表面に所定のパターンに従って設けられた均一組成材料からなるハーフトーン遮光層兼位相シフト層11とからなり、ハーフトーン遮光層兼位相シフト層11は、使用波長をλ、その屈折率をnとするとき、膜厚dが、ほぼd=λ/{2(n-1)}又はその奇数倍になるように設定され、また、その透過率がほぼ5〜30%の範囲になるように構成されている。

Claim (excerpt)：

透明基板と、その表面に所定のパターンに従って設けられた均一組成材料からなるハーフトーン遮光層兼位相シフト層とからなり、該ハーフトーン遮光層兼位相シフト層は、使用波長をλ、その屈折率をnとするとき、膜厚dが、ほぼd=λ/{2(n-1)}又はその奇数倍になるように設定され、また、その透過率がほぼ5〜30%の範囲になるように構成されていることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 移相マスクおよびマスキング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-241390   Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド
• フオトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-152084   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平4-136854