Pat

J-GLOBAL ID：200903050673166566

光透過膜及び光透過膜形成用スパッタリングタ-ゲット

Inventor： 桑野 勝雄 ,  高見 英生
Applicant, Patent owner： 株式会社ジャパンエナジー
Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999287606
Publication number (International publication number)：2000119062
Application date： Jan. 12, 1999
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 スパッタリング時のパーティクルの発生を減少させ、スパッタリングの中断または中止の回数を減らして生産効率を上げ、かつ透過率が大きく、低反射率の光ディスク用保護膜を得る。【解決手段】 Nb2O5、V2O5、B2O3、SiO2、P2O5からなるガラス形成酸化物を0.01〜20重量%、Al2O3、Ga2O3を0.01〜20重量%、さらに必要に応じて、硬質材料酸化物であるZrO2、TiO2を0.01〜5重量%含有し、残部In2O3、SnO2、ZnOから選択された1種以上の酸化物である光透過膜及び同膜を形成するためのスパッタリングターゲット。

Claim (excerpt)：

Nb2O5、V2O5、B2O3、SiO2、P2O5から選択された1種以上のガラス形成酸化物を0.01〜20重量%と、Al2O3又はGa2O3を0.01〜20重量%含有し、残部In2O3、SnO2、ZnOから選択された1種以上の酸化物であることを特徴とする光透過膜。

IPC (2)：

C04B 35/453 ,  C23C 14/34

FI (2)：

C04B 35/00 P ,  C23C 14/34 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 特開平4-104937
  
• 特開平4-228466
  
• 特開昭61-136954
  
• ITO焼結体およびその製造方法ならびに前記ITO焼結体を用いたITO膜の成膜方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-058475   Applicant：株式会社オプトロン, キヤノン株式会社
• 特開平4-104937
  
• 特開平4-228466
  
• 特開昭61-136954
  
• 特開平4-104937
  
• 特開平4-228466
  
• 特開昭61-136954