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J-GLOBAL ID:200903050687555689
蛍光X線分析方法および装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉本 修司 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993235486
Publication number (International publication number):1995063711
Application date: Aug. 27, 1993
Publication date: Mar. 10, 1995
Summary:
【要約】【目的】 蛍光X線分析において、オペレータは試料の品種やキーコードを知る必要がなく、しかも、キーコードを入力する必要をなくして、つまり、試料の品種を自動的に分別してオペレータの負担を軽くする。【構成】 試料の品種を判定するための品種判定元素についての蛍光X線の分別用強度範囲を予め定め、仮測定を行うことで品種判定元素についての蛍光X線の強度を測定し、この仮測定強度と分別用強度範囲に基づいて試料の品種を決定する。つづいて、品種に応じた本測定の条件で、試料の定量分析を行う。
Claim (excerpt):
試料に放射線を照射して、試料から発生した蛍光X線に基づいて試料の定量分析を行う蛍光X線分析方法において、試料の品種を判定するための仮測定条件と、試料の分析対象の元素の濃度を求めるための複数の本測定条件とを予め定め、試料の品種を判定するための品種判定元素についての蛍光X線の分別用強度範囲を予め求め、試料の品種ごとに当該試料に含まれる分析対象の元素についての検量線を予め求め、仮測定を行うことで品種判定元素についての蛍光X線の強度を測定し、この仮測定強度と上記分別用強度範囲に基づいて試料の品種を決定し、つづいて、当該品種の試料に応じた本測定を行うことで試料からの蛍光X線の強度を測定し、この本測定強度と当該品種の検量線に基づいて試料の定量分析を行う蛍光X線分析方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特公昭59-030213
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蛍光X線膜厚計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-021234
Applicant:セイコー電子工業株式会社
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