光学デバイスおよびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994180116
Publication number (International publication number)：1996043605
Application date： Aug. 01, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】所望の楔形状を1以上有する、新規な光学デバイスを実現する。【構成】所望の楔形状に対応する凸形状19を1以上有する母型12を用いて転写材11の表面への型転写を行い、母型の凸形状に応じた1以上の転写楔形状を表面形状として持つ転写材11の層をデバイス材料10の表面上に形成し、転写材11およびデバイス材料10に対して異方性のドライエッチングを行い、1以上の転写楔形状をデバイス材料10に彫り写し、デバイス材料に所望の楔形状を1以上形成する。

Claim (excerpt)：

所望の楔形状を1以上有する光学デバイスを製造する方法であって、上記所望の楔形状に対応する凸形状を1以上有する母型を用いて転写材の表面への型転写を行い、上記母型の凸形状に応じた1以上の転写楔形状を表面形状として持つ転写材の層を、デバイス材料の表面上に形成する転写工程と、上記転写材およびデバイス材料に対して異方性のドライエッチングを行い、上記1以上の転写楔形状をデバイス材料に彫り写し、デバイス材料に上記所望の楔形状を1以上形成するエッチング工程とを有することを特徴とする光学デバイス製造方法。

IPC (7)：

G02B 3/02 , B29C 69/00 , B29D 11/00 , C03B 11/00 , G02B 3/08 , G02B 5/18 , B29L 11:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-007504
回折格子成形型の製造方法およびフォトレジストの塗布方法と塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-171199 Applicant：キヤノン株式会社
オプチカル・ホモジナイザー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-097134 Applicant：リコー光学株式会社

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