Pat
J-GLOBAL ID：200903050950329052
コヒーレント発散干渉法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996196862
Publication number (International publication number)：1998009811
Application date： Jun. 21, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】基本原理であるコヒーレント発散光を得る方法と、それを用いた高感度の干渉計熱検出法及び溶質濃度測定法の提供。【解決手段】透明体の屈折率を局所的に変化させ、そこにレーザー光を照射して得られるコヒーレント発散光と、目的対象物によるレーザー光の二次光(散乱光、反射光、回折光等)とによって生じる干渉縞を信号とし、目的量を高感度に定量する干渉計及びこの干渉法を、コロイド分散系に応用する。
Claim (excerpt)：
透明体の屈折率を局所的(数十ミクロン)に変化させ、そこにレーザー光を照射し、コヒーレント発散光を得る方法。
IPC (6)：
G01B 9/02
, G01B 11/00
, G01J 1/04
, G01J 9/00
, G01N 15/14
, G01N 21/49
G01B 9/02
, G01B 11/00 G
, G01J 1/04 K
, G01J 9/00
, G01N 15/14 D
, G01N 21/49 Z
Cited by applicant (1)
-
サブミクロン粒子の検出方法および装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-056418
Applicant：株式会社新三国機械
Cited by examiner (1)
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サブミクロン粒子の検出方法および装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平4-056418
Applicant：株式会社新三国機械
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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