組織治療装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野河信太郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000508422
Publication number (International publication number)：2001514057
Application date： Aug. 28, 1998
Publication date： Sep. 11, 2001
Summary：

【要約】第1光ビームを出射する発光器と、第1光ビームを治療目標領域へ導く手段と、目標領域における少なくとも1つの組織パラメータを検出する検出器手段と、第1光ビームの少なくとも1つのパラメータを、検出された少なくとも1つの組織パラメータに応じて伝播光ビームをさえぎることなく制御する第1光ビーム制御手段を備えた表面組織治療装置が提供される。組織パラメータは肌理,弾性,サイズおよび形状を含むグループから選択できる。この装置は患者の真皮の薄い表皮層を除去したり、また、しみ,肝斑,赤斑,入れ墨,皮下血管のような組織上の痕跡を除去するために使用できると共に、イボ,外傷,毛包などを除去したり、治療できる。

Claim (excerpt)：

第1光ビームを出射する発光器と、第1光ビームを、治療すべき目標領域へ導く手段と、目標領域における少なくとも1つの組織パラメータを検出する検出器手段と、第1光ビームの少なくとも1つのパラメータを、検出された少なくとも1つの組織パラメータに応じて、伝播する光ビームをさえぎることなく制御する第1光ビーム制御手段、を備えた、表面組織治療装置。

IPC (2)：

A61B 18/20 , A61N 5/06

FI (2)：

A61N 5/06 E , A61B 17/36 350

F-Term (31)：

4C026AA02 , 4C026AA04 , 4C026BB01 , 4C026BB02 , 4C026BB06 , 4C026BB07 , 4C026BB08 , 4C026DD03 , 4C026DD06 , 4C026FF17 , 4C026FF22 , 4C026FF33 , 4C026FF34 , 4C026GG06 , 4C026GG07 , 4C026HH04 , 4C082RA01 , 4C082RA05 , 4C082RC04 , 4C082RC08 , 4C082RC09 , 4C082RE17 , 4C082RE22 , 4C082RE24 , 4C082RE33 , 4C082RE35 , 4C082RG03 , 4C082RG06 , 4C082RJ06 , 4C082RJ07 , 4C082RL04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

レーザビームによるアブレーション装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-061211 Applicant：株式会社ニデック
レーザ治療装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-249509 Applicant：テルモ株式会社
特開平1-250271

Return to Previous Page