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J-GLOBAL ID：200903051226178138

電界放出素子およびその製造方法

Inventor：
伊藤 茂生

About 伊藤 茂生


Applicant, Patent owner：
双葉電子工業株式会社

About 双葉電子工業株式会社


Agent (1)： 脇 篤夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996200992
Publication number (International publication number)：1998031954
Application date： Jul. 12, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：
【要約】【課題】簡易に製造できる構成とする。【解決手段】カソード基板1に多数本のストライプ状の溝を形成し、この溝内に、カソードライン5、抵抗層4、および、エミッタ層3からなるエミッタライン2を形成する。エミッタライン2は平面状とされるとされると共に、ストライプ状の溝内にエミッタライン2が形成されるため、その製造を容易に行える。
Claim (excerpt)：
カソード基板に形成された複数本のストライプ状の溝内に、カソードライン、抵抗層、およびエミッタ層が順次積層されて形成されており、前記ストライプ状の溝と溝との間の前記カソード基板の表面に、ゲートラインが形成されていることを特徴とする電界放出素子。
IPC (2)：
H01J 1/30 ,  H01J 9/02
FI (2)：
H01J 1/30 B ,  H01J 9/02 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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