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J-GLOBAL ID：200903051357246090

空気浄化装置

Inventor： 安藤 正夫 ,  山之内 良一 ,  宮崎 秀人 ,  酒井 雅子
Applicant, Patent owner： 株式会社エクォス・リサーチ
Agent (1)： 田下 明人 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997062467
Publication number (International publication number)：1998244130
Application date： Feb. 28, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 処理空気中の成分に対応して最も適切な浄化処理を行い得る空気浄化装置を提供する。【解決手段】 上流排ガスセンサ62により、所定値よりも高い排ガス濃度を検出した際に、ハロゲンランプ57にて光触媒フィルタ30及び酸化触媒フィルタ32を加熱して活性を高めることで、相対的に高い濃度の排気ガスを効率的に浄化する。一方、上流排ガスセンサ62により、所定値よりも低いガス濃度を検出した際に、ハロゲンランプ57による加熱を停止して常温に保つことで、吸着フィルタ34にて効率的に空気を浄化する。このため、処理空気中の成分に対応させ最も適切に浄化を行うことができる。

Claim (excerpt)：

酸化触媒と、該酸化触媒よりも下流側に配設された吸着剤と、該酸化触媒を加熱する酸化触媒加熱手段と、該酸化触媒加熱手段による加熱強度を制御する酸化触媒加熱制御手段と、を有する空気浄化装置であって、前記酸化触媒加熱制御手段に、該酸化触媒加熱制御手段による加熱強度を変化させる指令を送る加熱強度変化指令手段を有し、前記酸化触媒加熱制御手段が、該加熱強度変化指令手段からの指令を受けて、該酸化触媒加熱手段による加熱強度を強化して該酸化触媒を再生することを特徴とする空気浄化装置。

IPC (7)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01J 20/20 ,  B01J 35/02

FI (7)：

B01D 53/36 ZAB H ,  B01J 20/20 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/36 A ,  B01D 53/36 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 脱臭装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-055463   Applicant：株式会社東芝
• 厨芥処理機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-178784   Applicant：三洋電機株式会社