ポリイミド多孔質膜およびその製造法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001273294
Publication number (International publication number)：2003080538
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】簡便な手法にて作成することの出来る高耐久性ポリイミドハニカム膜の提供にある。【解決手段】両親媒性ポリマーの疎水性有機溶媒溶液を、相対湿度50%以上の大気下で基板上に塗布し、該有機溶媒を蒸発させることにより生じた微小水滴を蒸発させることにより得られる多孔質膜において、該多孔質膜が式(1)で表される繰り返し単位を有するポリイミドからなることを特徴とするポリイミド多孔質膜に関し、また両親媒性ポリマーの疎水性有機溶媒溶液を、相対湿度50%以上の大気下で基板上に塗布し、該有機溶媒を蒸発させることにより生じた微小水滴を蒸発させることにより得られる多孔質膜の製法において、該多孔質膜が式(2)で表されるポリアミック酸と脂質とのポリイオン錯体であり、かつこれを用いて多孔質膜を形成させてからイミド化することを特徴とするポリイミド多孔質膜の製造法に関する。【化1】(式中R1はテトラカルボン酸残基、R2はジアミン残基を示し、Qは炭素数4以上の有機基を少なくとも1つ有するアンモニウムカチオン残基を示す。)

Claim (excerpt)：

両親媒性ポリマーの疎水性有機溶媒溶液を、相対湿度50%以上の大気下で基板上に塗布し、該有機溶媒を蒸発させることにより生じた微小水滴を蒸発させることにより得られる多孔質膜において、該多孔質膜が式(1)【化1】(式中、R1はテトラカルボン酸残基、R2はジアミン残基を示す。)で表される繰り返し単位を有するポリイミドからなることを特徴とするポリイミド多孔質膜。

IPC (6)：

B29C 41/08 , B01D 71/64 , B01J 47/12 , H01M 8/02 , B29K 79:00 , B29K105:04

FI (6)：

B29C 41/08 , B01D 71/64 , B01J 47/12 B , H01M 8/02 P , B29K 79:00 , B29K105:04

F-Term (23)：

4D006GA50 , 4D006MA03 , 4D006MA12 , 4D006MA21 , 4D006MB15 , 4D006MC58X , 4D006NA04 , 4D006NA10 , 4D006NA16 , 4D006NA64 , 4D006PC01 , 4F205AA40 , 4F205AC05 , 4F205AG20 , 4F205AM26 , 4F205GA06 , 4F205GB01 , 4F205GE22 , 4F205GN22 , 4F205GN24 , 5H026AA06 , 5H026CX05 , 5H026EE18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

多孔質フィルム及びそれを用いた電池用セパレータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-116178 Applicant：宇部興産株式会社
特開昭56-139104
ハニカム構造体およびその調製方法、ならびにその構造体を用いたフィルムおよび細胞培養基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-340568 Applicant：テルモ株式会社

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