Pat

J-GLOBAL ID：200903051593375900

基板の洗浄方法及びそれに用いるアルカリ性洗浄組成物

Inventor： 迫 直樹 ,  森永 均
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995110740
Publication number (International publication number)：1996306650
Application date： May. 09, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】Fe及びAl等の金属の付着が防止され、且つ除去能力にも優れているアルカリ性洗浄組成物を提供する。【構成】アルカリ性洗浄組成物を用いて基板を洗浄するにあたり、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御する基板の洗浄方法、及び、アルカリ性溶液中に、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御することができる物質を添加含有せしめたアルカリ性洗浄組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ性洗浄組成物を用いて基板を洗浄するにあたり、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/395

FI (4)：

H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 M ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/395