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J-GLOBAL ID:200903051793815386
半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006174301
Publication number (International publication number):2008001838
Application date: Jun. 23, 2006
Publication date: Jan. 10, 2008
Summary:
【課題】半導体ウェハの裏面研削に際しウェハ表面と粘着剤層との間への水等の浸入が抑制され、ウェハ表面の汚染も抑制しうる半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及び半導体ウェハの裏面研削方法を提供する。【解決手段】基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部、(B)官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部及び(C)分子量1000〜5000のジオール型ポリプロピレングリコール1〜30質量部を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、(A-1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位、(A-2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位及び(A-3)ポリプロピレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するモノマー単位含むことを特徴とする。【選択図】なし
Claim (excerpt):
半導体ウェハの裏面を研削する際にその回路形成表面に貼着される半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー、及び、該(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部に対し、(B)1分子中に官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部と、(C)重量平均分子量1000〜5000の両末端官能基がジオール型のポリアルキレングリコール1〜20質量部と、を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、モノマー全量中、(A-1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位を10質量%〜98質量%、(A-2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位を1質量%〜30質量%、及び(A-3)ポリアルキレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するアクリル酸エステルモノマー単位を1質量%〜10質量%含有してなるモノマー組成物により調製されたポリマーであることを特徴とする半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム。
IPC (6):
C09J 7/02
, H01L 21/304
, B24B 7/22
, B24B 41/06
, C09J 133/00
, C09J 171/02
FI (7):
C09J7/02 Z
, H01L21/304 622J
, H01L21/304 631
, B24B7/22 Z
, B24B41/06 L
, C09J133/00
, C09J171/02
F-Term (40):
3C034AA07
, 3C034BB73
, 3C043BB00
, 3C043CC02
, 3C043DD05
, 4J004AA02
, 4J004AA10
, 4J004AA11
, 4J004AB01
, 4J004AB04
, 4J004CA03
, 4J004CA04
, 4J004CA05
, 4J004CA06
, 4J004CB03
, 4J004CC02
, 4J004FA04
, 4J004FA05
, 4J040DF031
, 4J040DF041
, 4J040DF051
, 4J040EC002
, 4J040EE01
, 4J040EE012
, 4J040EE022
, 4J040GA05
, 4J040GA07
, 4J040GA11
, 4J040GA13
, 4J040GA22
, 4J040HB14
, 4J040HC16
, 4J040HC22
, 4J040JA09
, 4J040JB09
, 4J040KA16
, 4J040LA01
, 4J040NA19
, 4J040PA23
, 4J040PA42
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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特開昭60-189938号公報
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半導体ウエハの保護部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-168635
Applicant:日東電工株式会社
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リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-183450
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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