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J-GLOBAL ID:200903051799993219
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000076942
Publication number (International publication number):2001261684
Application date: Mar. 17, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 合成における有機溶媒への溶解性に優れ、有害物質の発生及びイオン性不純物の残存もなく、安定性に優れた置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成法を提供する。【課題手段】 テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、三ハロゲン化ホウ素(A)と、アミン又はアミジン類とカルボン酸との塩(B)とを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。
Claim (excerpt):
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、一般式(2)で表される三ハロゲン化ホウ素(A)と、一般式(3)で表されるアミン又はアミジン類と一般式(4)で表されるカルボン酸との塩(B)とを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1、R2、R3は、アルキル基、アリール基又はR1、R2、R3の3個の置換基の内、少なくとも2個が環を形成する置換基。置換基R4は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から選ばれる基)【化2】(Xは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれるハロゲン原子)【化3】(R1、R2、R3は、アルキル基、アリール基又はR1、R2、R3の3個の置換基の内、少なくとも2個が環を形成する置換基)【化4】(置換基R4は、アルキル基、アリール基、アラルキル基から選ばれる基)
IPC (2):
FI (2):
F-Term (12):
4H048AA02
, 4H048AC90
, 4H048AD15
, 4H048AD17
, 4H048BB14
, 4H048BB31
, 4H048BB41
, 4H048BE56
, 4J036AA01
, 4J036GA06
, 4J036GA21
, 4J036JA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-340126
Applicant:住友ベークライト株式会社
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リン系潜伏性触媒の合成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-012488
Applicant:住友ベークライト株式会社
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