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J-GLOBAL ID：200903051859489221

放射光線源及び撮像システム

Inventor：
ドナルド・ドミニク・アーノン

About ドナルド・ドミニク・アーノン

, 
クライグ・マイケル・シーズラ

About クライグ・マイケル・シーズラ


Applicant, Patent owner：
トーシバ・リサーチ・ヨーロップ・リミテッド

About トーシバ・リサーチ・ヨーロップ・リミテッド


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999312673
Publication number (International publication number)：2000214506
Application date： Nov. 02, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】望ましい周波数の出射放射光線が効率的に得られる放射光線源と、これを使用した撮像システムを提供する。【解決手段】放射光線源は、1つ若しくは複数の入力ビーム7の照射に応答して放射光線ビーム53を出射するための周波数変換部材C2を具備する。出射されたビーム53は1つ若しくは複数の入力ビーム7と異なる周波数を有する。1つ若しくは複数の入力ビーム7は全てレーザ共振器(ミラーM3、M4、M5、M6、及び出力カップラ23で規定される)内で生成される。周波数変換部材C2はこのレーザ共振器内に配設される。この放射光線源を使用して撮像システムが構成される。
Claim (excerpt)：
1つ若しくは複数の入力ビームの照射に応答して放射光線ビームを出射するための周波数変換部材を具備し、前記出射されたビームは前記1つ若しくは複数の入力ビームと異なる周波数を有することと、前記1つ若しくは複数の入力ビームは全てレーザ共振器内で生成されると共に、前記周波数変換部材は前記レーザ共振器内に配設されることと、を特徴とする放射光線源。
IPC (4)：
G02F 1/37 ,  H01S 3/108 ,  H03G 3/18 ,  H04N 5/32
FI (4)：
G02F 1/37 ,  H01S 3/108 ,  H03G 3/18 ,  H04N 5/32
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-027180
  • 特開昭64-082582
  • 半導体デバイス
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-314136   Applicant：トーシバ・リサーチ・ヨーロップ・リミテッド

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