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J-GLOBAL ID:200903051879355264
炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造する方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001057738
Publication number (International publication number):2001348207
Application date: Mar. 02, 2001
Publication date: Dec. 18, 2001
Summary:
【要約】【課題】 炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造するための方法において、部分酸化が低い開始温度で実施されて、高い生成物の収量が得られる方法を提供する。【解決手段】 炭化水素含有供給ガス及び酸素含有供給ガスの混合物を、セリアモノリス基板の上又は中に担持された触媒的に有効な量の還元された金属触媒であって、ニッケル、コバルト、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、レニウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム及びこれらの組合せの群から選ばれる遷移金属又は貴金属から実質的に成る還元された金属触媒に1〜20気圧の間の圧力、50000〜500000/時間の供給ガスの標準ガス毎時空間速度、及び0.5〜5.0フィート/秒の線速度で接触させることを含む方法。
Claim (excerpt):
炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造する方法であって、炭化水素含有供給ガス及び酸素含有供給ガスの混合物を、セリアモノリス基板の上又は中に担持された触媒的に有効な量の還元された金属触媒であって、ニッケル、コバルト、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、レニウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム及びこれらの組合せの群から選ばれる遷移金属又は貴金属から実質的に成る還元された金属触媒に1〜20気圧の間の圧力、50000〜500000/時間の供給ガスの標準ガス毎時空間速度、及び0.5〜5.0フィート/秒の線速度で接触させることを含む方法。
IPC (4):
C01B 3/40
, B01J 23/63
, B01J 32/00
, B01J 37/16
FI (4):
C01B 3/40
, B01J 32/00
, B01J 37/16
, B01J 23/56 301 M
F-Term (29):
4G040EA03
, 4G040EA07
, 4G040EB16
, 4G040EC02
, 4G040EC03
, 4G040EC04
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC64A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC68A
, 4G069BC69A
, 4G069BC71B
, 4G069CC04
, 4G069DA06
, 4G069EA19
, 4G069EC27
, 4G069FA02
, 4G069FA03
, 4G069FB14
, 4G069FB23
, 4G069FB44
, 4G069FB77
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開平4-367501
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炭化水素の接触部分酸化法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-174670
Applicant:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
-
低級炭化水素燃料の改質方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-327865
Applicant:株式会社東芝
-
水素製造装置及び水素製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-259775
Applicant:三洋電機株式会社
-
排気ガス浄化用触媒及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-213364
Applicant:マツダ株式会社
-
特開昭61-111140
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