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J-GLOBAL ID：200903051887090644
ナノ構造体の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 福島 弘薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006033894
Publication number (International publication number)：2007211306
Application date： Feb. 10, 2006
Publication date： Aug. 23, 2007
Summary：
【課題】規則的な配列の窪みを有する構造体を得ることができる構造体の製造方法の提供。 【解決手段】アルミニウム基板を酸性水溶液中で陽極酸化処理を行なった後、中性水溶液中で、再陽極酸化処理を施し、その後、陰極として、酸水溶液中で電解することにより、前記アルミニウム基板から前記陽極酸化皮膜をはく離させて、複数の窪みを有するアルミニウム表面を有する基板、またはマイクロポアを有する陽極酸化皮膜からなる構造体を得るナノ構造体の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
アルミニウム基板を酸性水溶液中で陽極酸化処理を行なった後、中性水溶液中で、再陽極酸化処理を施し、その後、陰極として、酸水溶液中で電解することにより、前記アルミニウム基板から前記陽極酸化皮膜をはく離させて、複数の窪みを有するアルミニウム表面を有する基板からなる構造体を得るナノ構造体の製造方法。
IPC (4)：
C25D 11/04
, B82B 3/00
, C25D 11/12
, C25D 11/18
C25D11/04 303
, B82B3/00
, C25D11/12 Z
, C25D11/18 A
