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J-GLOBAL ID:200903052151419505

低濃度CO含有排ガス処理用触媒と低濃度CO含有排ガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松本 武彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004186672
Publication number (International publication number):2006007072
Application date: Jun. 24, 2004
Publication date: Jan. 12, 2006
Summary:
【課題】 排ガス中に含まれる低濃度COを効率良く除去できる、低濃度CO含有排ガス処理用触媒と、それを用いた低濃度CO含有排ガス処理方法を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる低濃度CO含有排ガス処理用触媒は、担体としてのチタン系酸化物にPt、Pd、Rh、Ru、Ir、およびAuからなる群より選ばれる少なくとも1種の貴金属が担持され、pKa≦+1.5の固体酸量が0.10mmol/g以上である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
担体としてのチタン系酸化物にPt、Pd、Rh、Ru、Ir、およびAuからなる群より選ばれる少なくとも1種の貴金属が担持され、pKa≦+1.5の固体酸量が0.10mmol/g以上である、低濃度CO含有排ガス処理用触媒。
IPC (5):
B01J 23/58 ,  B01J 23/42 ,  B01J 27/045 ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/652
FI (5):
B01J23/58 A ,  B01J23/42 A ,  B01J27/045 A ,  B01D53/36 104Z ,  B01J23/64 103A
F-Term (76):
4D048AA13 ,  4D048AB03 ,  4D048BA01X ,  4D048BA02X ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA08Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA23Y ,  4D048BA26Y ,  4D048BA27X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA43Y ,  4D048BA44Y ,  4D048BA46X ,  4G069AA03 ,  4G069BB04B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC16A ,  4G069BC16B ,  4G069BC33A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC51A ,  4G069BC54A ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BD05B ,  4G069BD07A ,  4G069BD08A ,  4G069BD08B ,  4G069BD15A ,  4G069CA10 ,  4G069CA14 ,  4G069EA02Y ,  4G169AA03 ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC33A ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC54A ,  4G169BC59A ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BD05B ,  4G169BD07A ,  4G169BD08A ,  4G169BD08B ,  4G169BD15A ,  4G169CA10 ,  4G169CA14 ,  4G169EA02Y
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)

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