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J-GLOBAL ID:200903052175901030
膜ろ過装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
川合 誠 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997258209
Publication number (International publication number):1999090436
Application date: Sep. 24, 1997
Publication date: Apr. 06, 1999
Summary:
【要約】【課題】被処理水の汚泥濃度を高くしても、ろ過継続時間を長くすることができるようにする。【解決手段】被処理水が供給され、凝集剤が加えられて被処理水中の汚泥を凝集させるための凝集槽11と、膜エレメント15を備え、前記凝集槽11から供給された被処理水を前記膜エレメント15によってろ過し、汚泥と処理水とに分離させるための膜分離槽12と、該膜分離槽12内の汚泥を所定の割合で前記凝集槽11に還流させる循環路とを有する。膜分離槽12内の汚泥が所定の割合で前記凝集槽11に還流させられ、再び凝集させられるので、被処理水の汚泥濃度を高くしても膜差圧が高くなるのを防止することができる。
Claim (excerpt):
(a)被処理水が供給され、凝集剤が加えられて被処理水中の汚泥を凝集させるための凝集槽と、(b)膜エレメントを備え、前記凝集槽から供給された被処理水を前記膜エレメントによってろ過し、汚泥と処理水とに分離させるための膜分離槽と、(c)該膜分離槽内の汚泥を所定の割合で前記凝集槽に還流させる循環路とを有することを特徴とする膜ろ過装置。
IPC (3):
C02F 1/44 ZAB
, C02F 1/52 ZAB
, C02F 11/14 ZAB
FI (3):
C02F 1/44 ZAB K
, C02F 1/52 ZAB K
, C02F 11/14 ZAB A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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