Pat

J-GLOBAL ID：200903052258706515

浄水場の塩素注入制御システム

Inventor： 窪田 真和 ,  椚 智朗 ,  奥 雅成
Applicant, Patent owner： 株式会社エフ・エフ・シー ,  富士電機システムズ株式会社
Agent (1)： 森田 雄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004151887
Publication number (International publication number)：2005329358
Application date： May. 21, 2004
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：

【課題】制御パラメータの補正やデータの学習等の煩雑な処理を不要にし、塩素注入率を最適に制御可能とする。 【解決手段】残留塩素濃度偏差が所定範囲になるように塩素注入率を制御する注入制御装置50が、水質データを時系列的に収集するデータ収集部502と、水質データ、塩素注入率等を記憶する記憶部505と、塩素注入率を目的変数とし水質データを説明変数とする重回帰分析により注入率演算式の制御パラメータを演算する重回帰分析部506と、前記制御パラメータ、水質データ、注入率演算式を用いて塩素注入率を演算する塩素注入率演算部504とを備える。重回帰分析部506は、塩素注入点と残留塩素濃度計測点との距離に起因する流下遅れ時間を考慮して各データの時間軸を揃え、かつ、残留塩素濃度偏差が所定範囲内であるデータを用いて重回帰分析を行う。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

浄水プロセスにおける残留塩素濃度を含む水質を計測する水質計と、残留塩素濃度設定値と前記水質計により計測した残留塩素濃度計測値との偏差が所定範囲になるように塩素注入率を制御する注入制御装置と、前記塩素注入率に従って塩素を注入する塩素注入装置と、を備えた浄水場の塩素注入制御システムであって、 前記注入制御装置が、塩素注入点よりも下流の計測点の残留塩素濃度設定値と計測値との偏差と、塩素注入点よりも上流の水質データとを用いて塩素注入点の塩素注入率を演算するようにした塩素注入制御システムにおいて、 前記注入制御装置は、 前記水質計により計測した水質データを時系列的に収集するデータ収集手段と、 このデータ収集手段により収集した水質データと、過去の運転データとしての水質データ及び塩素注入率を記憶する記憶手段と、 この記憶手段に記憶された運転データのうち、残留塩素濃度偏差が所定範囲内である時の塩素注入率を目的変数とし、かつ、水質データを説明変数として重回帰分析を行うことにより、塩素注入率演算式の制御パラメータを演算する重回帰分析手段と、 この重回帰分析手段により演算された制御パラメータと、前記水質計により計測した水質データ及び前記塩素注入率演算式を用いて、塩素注入点の塩素注入率を演算する塩素注入率演算手段と、を備え、 前記重回帰分析手段は、塩素注入点と残留塩素濃度計測点との間の距離に起因する流下遅れ時間を考慮して重回帰分析に使用する各データの時間軸を揃え、かつ、残留塩素濃度偏差が所定範囲内である時のデータを用いて重回帰分析を行うことを特徴とする浄水場の塩素注入制御システム。

IPC (2)：

C02F1/50 ,  C02F1/76

FI (8)：

C02F1/50 550L ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 510D ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 560Z ,  C02F1/76 A

F-Term (8)：

4D050AA03 ,  4D050AB06 ,  4D050BB06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 薬品注入率制御方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-320743   Applicant：株式会社明電舎
• 薬注制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-270106   Applicant：株式会社東芝