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J-GLOBAL ID:200903052282245316
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003321019
Publication number (International publication number):2005091427
Application date: Sep. 12, 2003
Publication date: Apr. 07, 2005
Summary:
【課題】 ラインエッジラフネス、露光マージンが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A1)活性光線又は放射線の照射により、ベンゼンスルホン酸よりも強い酸を発生する化合物、(A2)活性光線又は放射線の照射により、ベンゼンスルホン酸と同等又はそれよりも弱い酸を発生する化合物及び(B)単環又は多環の環状炭化水素構造を有するとともに少なくとも1種類のアクリル酸エステル誘導体由来の繰り返し単位を有し、且つガラス転移温度が70〜150°Cである、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(A1)活性光線又は放射線の照射により、ベンゼンスルホン酸よりも強い酸を発生する化合物、
(A2)活性光線又は放射線の照射により、ベンゼンスルホン酸と同等又はそれよりも弱い酸を発生する化合物及び
(B)単環又は多環の環状炭化水素構造を有するとともに少なくとも1種類のアクリル酸エステル誘導体由来の繰り返し単位を有し、且つガラス転移温度が70〜150°Cである、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3):
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
FI (3):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
F-Term (16):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE04
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB60
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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欧州特許第1020767号明細書
-
ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-188499
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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