電子内視鏡システム

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊藤進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002045354
Publication number (International publication number)：2003235794
Application date： Feb. 21, 2002
Publication date： Aug. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】内視鏡光学系に配置した光位相変調マスクに応じた復元処理手段が搭載されていない信号処理装置に、光位相変調マスクを有した内視鏡を接続しても、被写界深度の拡大、ならびに高解像の画像を生成でき、かつ、光位相変調マスクに応じた復元処理手段か搭載されている信号処理装置に、前記光位相変調マスクを有じた内視鏡を接続した場合は被写界深度の更なる拡大、ならびに更なる高解像の画像を生成する。【解決手段】被写界深度外処理回路12の画像処理回路27は映像信号に対しフィルタ処理を行う回路であり、光学的伝達関数のレスポンス、ならびに瞳変調素子によって発生する非対称な収差(ボケ)を復元する画像処理を行う。

Claim (excerpt)：

対物光学系の光学像を固体撮像素子にて撮像する複数種の内視鏡と、前記固体撮像素子からの信号をモニタに表示可能な映像信号に変換する複数の信号処理装置とを、組み合わせて接続使用される電子内視鏡システムにおいて、少なくとも1つの前記内視鏡の対物光学系は、光位相変調マスクを有し、前記光位相変調マスクは、物体距離に応じた光学的伝達関数の変化が、前記光位相変調マスクを持たない対物光学系よりも小さくなるように作用するよう配置され、前記信号処理装置は、前記光位相変調マスクにより変更された光学的伝達関数に対し、物体距離に応じた複数の光学的伝達関数復元処理を施す復元処理手段を有することを特徴とした電子内視鏡システム。

IPC (7)：

A61B 1/04 372 , A61B 1/00 300 , G02B 13/00 , G02B 23/24 , G02B 23/26 , H04N 5/225 , H04N 7/18

FI (7)：

A61B 1/04 372 , A61B 1/00 300 Y , G02B 13/00 , G02B 23/24 B , G02B 23/26 C , H04N 5/225 C , H04N 7/18 M

F-Term (33)：

2H040BA01 , 2H040CA22 , 2H040CA23 , 2H040GA02 , 2H087KA10 , 2H087LA01 , 2H087PA03 , 2H087PA18 , 2H087PB04 , 2H087QA01 , 2H087QA07 , 2H087QA18 , 2H087QA21 , 2H087QA25 , 2H087QA37 , 2H087QA41 , 2H087QA45 , 2H087RA42 , 2H087RA43 , 4C061BB01 , 4C061CC06 , 4C061FF40 , 4C061HH28 , 4C061LL02 , 4C061NN05 , 4C061PP11 , 4C061SS21 , 4C061TT12 , 5C022AA09 , 5C022AC51 , 5C054CC07 , 5C054EH00 , 5C054HA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

拡大被写界深度光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-266555 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
内視鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-271687 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
被写界深度拡大システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-080454 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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