温室栽培の炭酸ガス施与方法および炭酸ガス施与装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：江原省吾 , 田中秀佳 , 白石吉之 , 城村邦彦 , 熊野剛 , 山根広昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004254772
Publication number (International publication number)：2006067888
Application date： Sep. 01, 2004
Publication date： Mar. 16, 2006
Summary：

【課題】温室内の栽培作物全体に適度な濃度の炭酸ガス混合空気を均一にして安全に施与することのできる温室栽培の炭酸ガス施与方法、施与装置を提供。【解決手段】温室1内に設置した空気循環手段10で温室内で空気を循環させて栽培作物5に下向きに送風すると共に、温室外の炭酸ガス供給手段20で炭酸ガスを空気循環手段10の吸気口11に給送して、栽培作物5の生育環境に最も適合するように濃度制御された炭酸ガス混合空気を栽培作物5に下向きに施与して光合成を促進させる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

温室内で空気を循環させて温室内の栽培作物に送風する空気循環手段による温室内の空気循環経路の一部に炭酸ガス供給手段を連接し、前記炭酸ガス供給手段から炭酸ガスを前記空気循環経路に適宜に供与して、炭酸ガスを混合し希釈した循環空気を前記栽培作物に直接に、かつ、下向きに吹き付けることを特徴とする温室栽培の炭酸ガス施与方法。

IPC (1)：

A01G 9/18

FI (1)：

A01G9/18

F-Term (2)：

2B029JA02 , 2B029PA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

処理液供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-115366 Applicant：日本電産コパル株式会社

Cited by examiner (5)

特開昭54-035042
特開平3-228625
特開昭52-043639

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