Pat
J-GLOBAL ID:200903052677780113
等電子コドーピング
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
朝日奈 宗太
, 佐木 啓二
, 秋山 文男
, 田中 弘
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002564767
Publication number (International publication number):2004537159
Application date: Feb. 09, 2001
Publication date: Dec. 09, 2004
Summary:
深いアクセプターと深いドナーでの半導体化合物および合金の等電子コドーピングが、バンドギャップを低減するため、得られる合金中のドーパント成分濃度を高めるため、およびキャリア移動度寿命を長くするために使用される。GaAsおよびGaPのようなIII-V族化合物および合金は、太陽電池、熱光起電電池、発光ダイオード、光検出器およびレーザを、GaP、InP、GaAs、GeおよびSi基板上に特製するために、たとえばチッ素およびビスマスで等電子的にコドープされる。等電子的にコドープされたII-VI族化合物および合金も、本発明に含まれる。
Claim (excerpt):
独占的な所有および特権を請求する本発明の態様を、以下に示す。
IPC (6):
H01L31/04
, H01L27/14
, H01L31/10
, H01L33/00
, H01S5/183
, H01S5/343
FI (6):
H01L31/04 E
, H01L33/00 B
, H01S5/183
, H01S5/343
, H01L31/10 A
, H01L27/14 K
F-Term (29):
4M118AA10
, 4M118AB05
, 4M118BA06
, 4M118CA03
, 4M118CA14
, 4M118CB02
, 4M118GA10
, 5F041CA05
, 5F041CA33
, 5F041CA34
, 5F041CA37
, 5F041CA57
, 5F041CB15
, 5F049MA01
, 5F049MB07
, 5F049SS04
, 5F051AA02
, 5F051AA08
, 5F051AA16
, 5F051DA03
, 5F051DA17
, 5F051DA19
, 5F073AA46
, 5F073AA74
, 5F073AB17
, 5F073CA02
, 5F073CB02
, 5F073CB04
, 5F073CB16
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page