付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金山聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001318502
Publication number (International publication number)：2003121983
Application date： Oct. 16, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：

【要約】【課題】検査効率の良い付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法を提供する。【解決手段】 (a)付加図形付きフォトマスク作製用のフォトマスクパタンデータを用いて、所定の検出感度で、作製された付加図形付きのフォトマスクを検査して、欠陥部を検出し、各欠陥の位置座標を得る欠陥検査ステップと、(b)検出された各欠陥が付加図形存在領域にあるか否かを弁別するための弁別用データを、フォトマスクイメージとして配置して用意する弁別用データ準備ステップと、(c)弁別用データ準備ステップにて用意された弁別用データと、欠陥検査ステップにて検出された各欠陥の位置座標とを、個々付き合せ、各欠陥が付加図形存在領域にあるか否かを弁別する欠陥存在領域弁別ステップと、(d)弁別された欠陥を、それぞれのスペックにて判定する判定ステップとを、備えている。

Claim (excerpt)：

図形密度を均一化するための付加図形を複数設けた付加図形付きのフォトマスクの欠陥検査方法であって、(a)付加図形付きフォトマスク作製用のフォトマスクパタンデータを用いて、所定の検出感度で、作製された付加図形付きのフォトマスクを検査して、欠陥部を検出し、各欠陥の位置座標を得る欠陥検査ステップと、(b)検出された各欠陥が付加図形存在領域にあるか否かを弁別するための弁別用データを、フォトマスクイメージとして配置して用意する弁別用データ準備ステップと、(c)弁別用データ準備ステップにて用意された弁別用データと、欠陥検査ステップにて検出された各欠陥の位置座標とを、個々付き合せ、各欠陥が付加図形存在領域にあるか否かを弁別する欠陥存在領域弁別ステップと、(d)弁別された欠陥を、それぞれのスペックにて判定する判定ステップとを、備えていることを特徴とする付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 , G01B 11/30 , G01N 21/956 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 S , G01B 11/30 Z , G01N 21/956 A , H01L 21/30 502 P

F-Term (20)：

2F065AA01 , 2F065AA20 , 2F065AA49 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065CC18 , 2F065DD06 , 2F065FF04 , 2F065FF61 , 2F065QQ06 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065RR05 , 2F065TT08 , 2F065UU05 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AC21 , 2G051EB09 , 2H095BD04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

パタンデータの作成方法および付加パタン付きフォトマスクの描画方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-327819 Applicant：大日本印刷株式会社
欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-213350 Applicant：沖電気工業株式会社
マスクの検査方法及びマスクの検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-037364 Applicant：日本電気株式会社

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