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J-GLOBAL ID:200903052791388479

ガス回収装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木内 光春
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999282045
Publication number (International publication number):2001110284
Application date: Oct. 01, 1999
Publication date: Apr. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 SF6ガスの回収率を高めると共に、減圧条件下での回収効率を高めて回収作業時間の短縮化を図る。【解決手段】 ガス絶縁機器1と加圧液化装置6との間には、混合ガスから窒素ガスを分離してSF6ガスを濃縮し、SF6ガスだけを加圧液化装置6に送り込むガス分離装置5が設けられている。ガス分離装置5とガス絶縁機器1との間には、混合ガスを保管するための導入部バッファタンク4が設けられている。この導入部バッファタンク4及び加圧液化装置6には加圧液化装置6内のガス相を導入部バッファタンク4へと還流する還流ライン19が接続されている。さらに、ガス分離装置5には吸着剤18が封入された排出ガス溜めタンク8が接続されている。
Claim (excerpt):
SF6ガスを含む複数種の絶縁性ガスからなる混合ガスを充填したガス絶縁機器に用いられる装置であって、ガス絶縁機器から混合ガスを回収してこれを加圧し前記混合ガス中のSF6ガスを液化する加圧液化装置と、前記混合ガスから分解ガス及び粒子状の異物を除去するフィルタと、前記ガス絶縁機器から前記加圧液化装置に前記混合ガスを送り込むポンプと、前記加圧液化装置により液化されたSF6液を溜める貯蔵タンクとが備えられたガス回収装置において、前記加圧液化装置内のガス相を加圧液化装置に対する混合ガスの導入部へと還流する還流ラインが設けられたことを特徴とするガス回収装置。
F-Term (1):
5G028GG05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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