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J-GLOBAL ID:200903052824883349
NiPめっきしたディスクを研磨するためのコロイドシリカスラリー
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中村 稔 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998316106
Publication number (International publication number):1999246849
Application date: Nov. 06, 1998
Publication date: Sep. 14, 1999
Summary:
【要約】【課題】 コロイドスラリーの物質除去速度を増加させ、研磨傷の数を減少させ、同時に良好な研磨表面仕上げを提供する配合物を製造する。【解決手段】 水性コロイド研磨材スラリーに金属硝酸塩を含ませる。
Claim (excerpt):
研磨工程に使用するコロイドスラリーであって、製品を磨耗により研磨するための水性コロイドシリカ研磨材及び前記スラリーを用いての化学-機械研磨中の研磨速度を増加させるための金属硝酸塩を含むことを特徴とするスラリー。
IPC (2):
C09K 3/14 550
, B24B 37/00
FI (2):
C09K 3/14 550 D
, B24B 37/00 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-034178
Applicant:昭和電工株式会社
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特開平4-093168
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特開昭52-081692
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