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J-GLOBAL ID：200903052840883510

インクジェットで作成された集積回路

Inventor： ヘニング シリンガス ,  リチャード ヘンリー フレンド ,  川瀬 健夫
Applicant, Patent owner： プラスティック ロジック リミテッド
Agent (1)： 小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001547423
Publication number (International publication number)：2003518332
Application date： Dec. 21, 2000
Publication date： Jun. 03, 2003
Summary：

【要約】少なくとも2つの内部結線された電気的スイッチ素子を含む集積回路の製造方法であって、その方法は、インクジェット印刷により、電気的スイッチ素子の少なくとも一部分を形成する工程を備える。

Claim (excerpt)：

少なくとも2つの相互接続される電子スイッチ素子を備える集積回路を形成する方法であって、インクジェット印刷により少なくとも一部の電子スイッチ素子を形成するステップを含む方法。

IPC (6)：

H01L 21/288 ,  B41J 2/01 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/417 ,  H01L 29/786

FI (8)：

H01L 21/288 Z ,  H01L 21/28 301 Z ,  H01L 29/78 618 A ,  B41J 3/04 101 Z ,  H01L 29/50 M ,  H01L 29/78 618 B ,  H01L 29/78 616 K ,  H01L 29/78 616 V

F-Term (36)：

2C056FB01 ,  2C056FD20 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD06 ,  4M104DD20 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104EE03 ,  4M104EE18 ,  4M104GG09 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110BB03 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD12 ,  5F110DD25 ,  5F110EE01 ,  5F110FF01 ,  5F110FF09 ,  5F110FF21 ,  5F110GG05 ,  5F110GG41 ,  5F110GG42 ,  5F110GG58 ,  5F110HK01 ,  5F110HK31 ,  5F110HK42 ,  5F110HL01 ,  5F110HL04 ,  5F110HL07 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-014491
  
• パターン形成方法および基板製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-008016   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• インクジェット印刷技術を使って有機半導体装置を製造する方法、およびこれを利用した装置およびシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-517452   Applicant：ザリージェンツオブザユニヴァーシティーオブカリフォルニア