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J-GLOBAL ID:200903037357886135

パターン形成方法および基板製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998008016
Publication number (International publication number):1999204529
Application date: Jan. 19, 1998
Publication date: Jul. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 インクジェット方式を使用して基板にパターン形成を可能とする基板の製造技術を提供する。【解決手段】 流動体11により基板1上に任意のパターンを形成するための基板製造装置に関する。当該装置は、流動体11を基板1上に吐出可能に構成されたインクジェット式記録ヘッド2、基板1上に一定の処理を行う処理手段3、インクジェット式記録ヘッド2および処理手段3と基板1との相対位置を変更可能に構成される駆動手段4、およびインクジェット式記録ヘッド2からの流動体11の吐出、処理手段3による処理並びに駆動手段4による駆動を制御する制御手段5を備える。制御手段5は、処理手段による処理をインクジェット式記録ヘッド2からの流動体の吐出に先行して行わせることが可能に構成される。
Claim (excerpt):
インクジェット式記録ヘッドより所定の流動体を基板上に吐出して任意のパターンを形成するパターン形成方法であって、前記流動体の吐出前に予め前記基板上に一定の処理を行うステップと、前記処理をした基板上に前記インクジェット式記録ヘッドより前記流動体を吐出するステップと、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2):
H01L 21/3205 ,  B41J 2/01
FI (2):
H01L 21/88 B ,  B41J 3/04 101 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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