フロスト面を有する基板を用いた核酸プローブアレイ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001304118
Publication number (International publication number)：2003107086
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】核酸プローブアレイにおける各スポット当りのDNAプローブ固相化量を増大して、検出感度を高めること。【解決手段】固相担体と、該固相担体表面の少なくとも核酸プローブを固相化する領域に形成されたフロスト面と、該フロスト面に固相化された核酸プローブとを具備することを特徴とする核酸プローブアレイ。

Claim (excerpt)：

非浸透性の固相担体と、該固相担体表面の少なくとも核酸プローブを固相化する領域に形成された略均一な微小部分からなるフロスト面と、該フロスト面に所要濃度でスポット状に固相化された核酸プローブとを具備することを特徴とする核酸プローブアレイ。

IPC (4)：

G01N 33/53 , C12M 1/00 , C12N 15/09 ZNA , G01N 37/00 102

FI (4)：

G01N 33/53 M , C12M 1/00 A , G01N 37/00 102 , C12N 15/00 ZNA F

F-Term (9)：

4B024AA11 , 4B024AA20 , 4B024CA09 , 4B024HA14 , 4B029AA07 , 4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC08 , 4B029FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

化学修飾を施した基体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-320945 Applicant：東洋鋼鈑株式会社, 高橋浩二郎, 株式会社日本パーカーライジング広島工場
半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-034501 Applicant：セイコーエプソン株式会社
生化学解析用ユニットおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-174596 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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