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J-GLOBAL ID：200903052896203105

基板処理装置

Inventor： 濱田 哲也
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998116678
Publication number (International publication number)：1999307613
Application date： Apr. 27, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 搬送律速の状況下でも基板搬送手段の動作速度を向上させることなく高いスループットが得られる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板は処理ユニットP1、P2、P3、P4、P6の順に搬送され、一連の処理が行われる。処理ユニットP1、P2、P3はエリアER1として、また、処理ユニットP4、P5、P6はエリアER2として分類される。そして、エリアER1、ER2のそれぞれの内部での処理ユニット間の搬送時間である「エリア内搬送時間」を規定するとともに、エリアER1、ER2間に亙る処理ユニット間の搬送時間である「エリア間搬送時間」を規定する。基板の搬送を行うときは、上記「エリア内搬送時間」および「エリア間搬送時間」に従って実行する。各処理ユニット間のすべての搬送時間をそれらのうちの最長所要時間に一律に設定する場合に比較してスループットを向上できる。

Claim (excerpt)：

基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 前記所定の処理を行う複数の処理部と、(b) 前記複数の処理部間で基板の搬送を行う基板搬送手段と、(c) 前記複数の処理部を複数の処理部群に分類し、前記複数の処理部群のそれぞれの内部での処理部間の搬送時間である郡内搬送時間および異なる前記処理部群間に亙る処理部間の搬送時間である群間搬送時間を規定し、前記郡内搬送時間および前記群間搬送時間に従って前記基板搬送手段に基板の搬送を行わせる制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-135796   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-353312   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• ウェーハの湿式自動洗浄システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-313823   Applicant：富士電機株式会社