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J-GLOBAL ID：200903052973595828

超純水製造装置

Inventor： 古川 征弘
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998344054
Publication number (International publication number)：2000167567
Application date： Dec. 03, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】 より高純度化された超純水水質、即ち、TOC 2ppb以下の超純水を安定に製造できる超純水製造装置を提案する。【解決手段】 前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムからなる超純水装置において、前処理装置及び一次純水製造装置の任意の位置に被処理水中のトリハロメタンの大部分を除去するトリハロメタン除去装置を設けた。

Claim (excerpt)：

前処理装置、一次純水製造装置、サブシステムからなる超純水装置において、前処理装置及び一次純水製造装置の任意の位置に被処理水中のトリハロメタンの大部分を除去するトリハロメタン除去装置を設けたことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (5)：

C02F 1/58 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

FI (11)：

C02F 1/58 A ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 B ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 E

F-Term (14)：

4D038AA01 ,  4D038AA02 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BB02 ,  4D038BB03 ,  4D038BB04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB08 ,  4D038BB09 ,  4D038BB10 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超純水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-189025   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• 水の放散処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-128739   Applicant：栗田工業株式会社